| 适用wafer规格 | Wafer尺寸 | 0~12' | |||||||
| Wafer厚度 | 0mm~2.0mm | ||||||||
| ChuckXY轴运动规格 | XY运动分辨率 | 0.1µm | |||||||
| XY重定位精度 | ≤±1µm | ||||||||
| XY定位精度 | ≤±2µm | ||||||||
| XY移动速率 | ≥70mm/s | ||||||||
| X行程 | 350mm | ||||||||
| Y行程 | 400mm | ||||||||
| 反馈系统 | 0.1µm光栅反馈 | ||||||||
| ChuckZ轴运动规格 | Z运动分辨率 | 0.1um | |||||||
| Z重复精度 | ≤±lμm | ||||||||
| Z定位精度 | +-2μm | ||||||||
| Z移动速率 | ≤20mm/s | ||||||||
| Z行程 | 20mm | ||||||||
| Chuck旋转轴 | 行程范围 | ±10° | |||||||
| 边缘移动分辨率 | 0.175um(0.0001°) | ||||||||
| 运动分辨率 | 0.0001° | ||||||||
| 重复精度 | ≤±lμm(在300mmChuck边缘) | ||||||||
| 定位精度 | ≤±2μm(在300mmChuck边缘) | ||||||||
| 速率 | ≤10°/s | ||||||||
| 9.4.Chuck温控系统(可选配置) | |||||||||
| 基本参数 | 型号 | 6'~12' | |||||||
| 温控范围 | -60℃~300℃ | ||||||||
| 温控稳定性 | ±0.1℃ | ||||||||
| 温控最小设定 | 0.1℃ | ||||||||
| 温控分辨率 | 0.01℃ | ||||||||
| 噪声 | <50dB | ||||||||
| 加热方式 | 低压直流加热/PID控制 | ||||||||
| 制冷方式 | 压缩机制冷 | ||||||||
| 时间表述 | From | To | Time(min) | ||||||
| 加热速率 | +25℃ | +150℃/+200℃/+300℃ | 20/25/30 | ||||||
| 0℃ | +25℃ | 5 | |||||||
| -20℃ | +25℃ | 8 | |||||||
| -40℃ | +25℃ | 10 | |||||||
| -55℃ | +25℃ | 12 | |||||||
| -60℃ | +25℃ | 15 | |||||||
| 冷却速率 | +150℃/+200℃/+300℃ | +25℃ | 25/30/35 | ||||||
| +25℃ | 0℃ | 15 | |||||||
| +25℃ | -20℃ | 25 | |||||||
| +25℃ | -40℃ | 35 | |||||||
| +25℃ | -55℃ | 40 | |||||||
| +25℃ | -60℃ | 50 |