适用wafer规格 | Wafer尺寸 | 0~12' | |||||||
Wafer厚度 | 0mm~2.0mm | ||||||||
ChuckXY轴运动规格 | XY运动分辨率 | 0.1µm | |||||||
XY重定位精度 | ≤±1µm | ||||||||
XY定位精度 | ≤±2µm | ||||||||
XY移动速率 | ≥70mm/s | ||||||||
X行程 | 350mm | ||||||||
Y行程 | 400mm | ||||||||
反馈系统 | 0.1µm光栅反馈 | ||||||||
ChuckZ轴运动规格 | Z运动分辨率 | 0.1um | |||||||
Z重复精度 | ≤±lμm | ||||||||
Z定位精度 | +-2μm | ||||||||
Z移动速率 | ≤20mm/s | ||||||||
Z行程 | 20mm | ||||||||
Chuck旋转轴 | 行程范围 | ±10° | |||||||
边缘移动分辨率 | 0.175um(0.0001°) | ||||||||
运动分辨率 | 0.0001° | ||||||||
重复精度 | ≤±lμm(在300mmChuck边缘) | ||||||||
定位精度 | ≤±2μm(在300mmChuck边缘) | ||||||||
速率 | ≤10°/s | ||||||||
9.4.Chuck温控系统(可选配置) | |||||||||
基本参数 | 型号 | 6'~12' | |||||||
温控范围 | -60℃~300℃ | ||||||||
温控稳定性 | ±0.1℃ | ||||||||
温控最小设定 | 0.1℃ | ||||||||
温控分辨率 | 0.01℃ | ||||||||
噪声 | <50dB | ||||||||
加热方式 | 低压直流加热/PID控制 | ||||||||
制冷方式 | 压缩机制冷 | ||||||||
时间表述 | From | To | Time(min) | ||||||
加热速率 | +25℃ | +150℃/+200℃/+300℃ | 20/25/30 | ||||||
0℃ | +25℃ | 5 | |||||||
-20℃ | +25℃ | 8 | |||||||
-40℃ | +25℃ | 10 | |||||||
-55℃ | +25℃ | 12 | |||||||
-60℃ | +25℃ | 15 | |||||||
冷却速率 | +150℃/+200℃/+300℃ | +25℃ | 25/30/35 | ||||||
+25℃ | 0℃ | 15 | |||||||
+25℃ | -20℃ | 25 | |||||||
+25℃ | -40℃ | 35 | |||||||
+25℃ | -55℃ | 40 | |||||||
+25℃ | -60℃ | 50 |